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影響三坐標(biāo)測量機(jī)正常工作的主要原因及解決

一、溫度1.溫度是影響測量機(jī)精度的最大因素。2.在測量機(jī)的機(jī)房內(nèi)溫度自下而上是逐漸升高的，而且溫度每時每刻又都在變化。因此每個軸的光柵溫度和零件溫度的差別就影響了測量機(jī)測量的精度。3.不合理的溫度控制方法(空調(diào)即用即開，測量機(jī)不用則關(guān)空調(diào))，會導(dǎo)致測量室內(nèi)溫度不穩(wěn)定均衡。測量機(jī)的溫度也一直在變化，機(jī)器處于一種不穩(wěn)定狀態(tài)，測量精度會很差。解決辦法及要求：在測量機(jī)軟件中可以用線性修正和溫度修正來針對現(xiàn)場檢定時的環(huán)境情況修正溫度影響。電氣設(shè)備，計(jì)算機(jī)等熱源應(yīng)與測量機(jī)保持一定的距離。...

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三坐標(biāo)測量機(jī)測量過程與誤差探析

引言三坐標(biāo)測量機(jī)是現(xiàn)代化的一種自動測量技術(shù)，是高精度、高效率自動化測量技術(shù)發(fā)展的重要體現(xiàn)。按其機(jī)構(gòu)形式可分為橋式、龍門式、便攜式、懸臂式等，橋式是一種非常普遍的結(jié)構(gòu)形式，大部分公司三坐標(biāo)測量機(jī)均為橋式結(jié)構(gòu)，適合日常教學(xué)與應(yīng)用。三坐標(biāo)測量機(jī)的測量原理是精確測出零件表面的空間三坐標(biāo)值，經(jīng)過一定算法擬合成線、面、圓柱、球等測量元素，通過數(shù)學(xué)計(jì)算，得出其形狀、位置及其它幾何量數(shù)據(jù)?？梢?，精確測量出零件表面點(diǎn)的坐標(biāo)，是評價形狀、位置等幾何量誤差的基礎(chǔ)。然而，實(shí)際的三坐標(biāo)測量機(jī)應(yīng)用并不充...

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二次元影像儀如何保養(yǎng)?

對二次元影像測量儀進(jìn)行保養(yǎng)，不僅可以保證影像儀的測量精度，而且可以適當(dāng)?shù)难娱L影像測量儀的使用壽命。我們怎么更好的保養(yǎng)光學(xué)檢測設(shè)備呢？1、高精密儀器對環(huán)境要求比較苛刻，應(yīng)將檢測設(shè)備放在標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室，溫度保持在20±2℃，濕度維持40%—70%之間。2、設(shè)備出廠前都經(jīng)過廠家技術(shù)人員調(diào)試，請勿自行拆卸，客戶如需要移動設(shè)備，請聯(lián)系廠家專業(yè)人員移機(jī)。需將機(jī)構(gòu)及傳動模組固定，過程中避免磕碰、撞擊造成精度誤差。3、設(shè)備每年需定期校準(zhǔn)保養(yǎng)，應(yīng)聯(lián)系廠家專業(yè)技術(shù)人員進(jìn)行校準(zhǔn)維護(hù)，能夠...

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什么是塵埃粒子計(jì)數(shù)器及其工作原理？

什么是塵埃粒子計(jì)數(shù)器，它如何工作？潔凈室設(shè)施對于半導(dǎo)體和醫(yī)藥產(chǎn)品，生物技術(shù)以及其他對環(huán)境污染非常敏感的領(lǐng)域的開發(fā)和制造至關(guān)重要。潔凈室的設(shè)計(jì)旨在保持極低的空氣中顆粒物含量，可將其分為9類，這取決于每立方米的顆粒數(shù)。讓我們以ISO9分類為例。每立方米(大小范圍0.5μm或更大)大約有3500萬個顆粒，而ISO1分類僅允許每立方米(3μm或更小的顆粒)有12個顆粒。達(dá)到特定的潔凈室清潔度認(rèn)證需要許多變量，但是粒子計(jì)數(shù)器是用于監(jiān)視，分類和診斷潔凈室操作中污染物來源的工具。顆粒計(jì)數(shù)器...

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塵埃粒子計(jì)數(shù)器的使用和技術(shù)要求

塵埃粒子計(jì)數(shù)器是用于測量潔凈環(huán)境中單位體積內(nèi)塵埃粒子數(shù)和粒徑分布的儀器?，F(xiàn)在使用塵埃粒子計(jì)數(shù)器的用戶越來越多，其廣泛應(yīng)用于醫(yī)藥、電子、精密機(jī)械、彩管制造、微生物等行業(yè)中，實(shí)現(xiàn)對各種潔凈等級的工作臺、凈化室、凈化車間的凈化效果、潔凈級別進(jìn)行監(jiān)控，以確保產(chǎn)品的質(zhì)量。塵埃粒子計(jì)數(shù)器的測量值有兩種表示方式：總計(jì)方式和分計(jì)方式?？傆?jì)方式指測量值為大于等于該粒徑的粒子數(shù)，分計(jì)方式指測量值為大于等于該粒徑同時又小于下一組鄰粒徑的粒子數(shù)。計(jì)數(shù)器在開始采樣前應(yīng)先自凈，以確保儀器內(nèi)部無殘留粒子。...

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